正性薄光刻胶和厚光刻胶

正性光刻胶是一种对光敏感的高分子材料，在受到特定波长的光照射后，其化学结构会发生变化，从而导致溶解性发生改变。具体来说，在曝光区域，光刻胶中的感光成分会发生光化学反应，使得曝光部分的光刻胶在显影液中溶解性增强，能够被显影液去除，而未曝光部分的光刻胶则保持原来的不溶性，从而在光刻过程中形成与掩膜版相对应的图形。